近日，我校与重庆大学合作在国际顶级期刊《Angewandte Chemie International Edition》（中国科学院一区Top）发表了题为“Superoxide-Anion-Dominated Labeling of Graphene Defects in an Interfacial Nanoreactor of Electron-Donated Substrate”的研究论文。我校为论文第一单位。材料与新能源学院杨倩副教授和重庆大学胡宝山教授为共同通讯作者。

为实现石墨烯缺陷快速精准表征，研究团队提出了一种基于染料分子光敏化的限域光化学策略。该研究利用石墨烯缺陷位点与下方铜基底界面构建的限域“纳米反应器”，调控光激发亚甲基蓝的光敏化路径，使其优先通过I型电子转移路径生成超氧阴离子，进而驱动石墨烯缺陷处铜基底的选择性刻蚀。该刻蚀反应具有空间限域特征，其依赖于铜晶面取向。该工作实现了石墨烯缺陷的精准标记，为二维材料缺陷的化学识别与修饰提供了新思路。

《Angewandte Chemie International Edition》由德国化学会主办、Wiley-VCH出版社出版，其母刊《Angewandte Chemie》创刊于1887年，国际版创刊于1962年，是国际化学领域最具影响力的顶级学术期刊之一。该刊被SCI、SCIE等权威数据库收录，最新影响因子为17.6，属于中国科学院化学大类一区TOP期刊，JCR化学综合Q1区，在全球化学及相关交叉学科领域具有极高的学术影响力。

论文链接：https://doi.org/10.1002/anie.2000678